LMP-4S型自动磨抛机为双盘台式磨抛机，跟据国际标准，采用国际工艺技术，研发制造一款单点加力的新型研磨抛光设备。(无电子比例阀，手动调压）具备磨抛盘旋转方向可

UNIPOL-1203化学机械磨抛机，适用于CMP平坦化和平滑化工艺技术， 整机研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀，配置自动滴料器和精密磨抛控制仪，全自动触摸屏面

CMP-3S型自动磨抛机为双盘台式机，是依据国际标准，采用国际先进工艺技术制造的新一代高精度、制样过程自动化的研磨抛光设备。具备磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘

CMP-3自动磨抛机为单盘台式机，是依据国际标准，采用国际先进工艺技术制造的新一代高精度、制样过程自动化的研磨抛光设备。磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘可快速更

CMP-4型自动磨抛机为双单台式磨抛机，跟据国际标准，采用国际工艺技术，研发制造一款单点加力的新型研磨抛光设备。(无电子比例阀，手动调压）具备磨抛盘旋转方向可任

CMP-4S型自动磨抛机为双盘台式机，是中心力加压和单点加压的一体机，是依据国际标准，采用国际先进工艺技术制造的新一代高精度、制样过程自动化的研抛光设备。具备磨

本磨抛机为双盘台式机，适用于对金相试样进行预磨和抛光操作。是用户用来制作金相试样的设备。本机带有冷却装置，可以在预磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相

本磨抛机为单盘台式机，适用于对金相试样进行预磨、研磨和抛光操作。本机通过变频器调速，可直接获得50-1000转/分钟之间的转速，具有150/300/600/80

本磨抛机为双盘台式机，适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。本机采用微处理器控制系统，可直接获得50-600转/分钟之间的转速，从而使本机具有更加广泛的应用

本磨抛机为双盘台式机，适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。本机具有300转／分钟和600转／分钟两种转速，从而使本机具有更加广泛的应用性，是用户用来制作金